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德國BEAM光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模

來源: 發(fā)布時間:2025-07-25

某能源研究團隊采用 Polos 光刻機制造了壓電式微型能量收集器。其激光直寫技術(shù)在 PZT 薄膜上刻制出 50μm 的叉指電極,器件的能量轉(zhuǎn)換效率達 35%,在 10Hz 振動下可輸出 50μW/cm2 的功率。通過自定義電極間距和厚度,該收集器可適配不同頻率的環(huán)境振動,在智能穿戴設(shè)備中實現(xiàn)了運動能量的實時采集與存儲。其輕量化設(shè)計(體積 < 1mm3)還被用于物聯(lián)網(wǎng)傳感器節(jié)點,使傳感器續(xù)航時間從 3 個月延長至 2 年。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。圖案靈活性:支持 STL 模型直接導入,30 分鐘完成從設(shè)計到曝光全流程。德國BEAM光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模

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微流體芯片制造的core工具!Polos光刻機可加工80 μm直徑的開環(huán)諧振器和2 μm叉指電極,適用于傳感器與執(zhí)行器開發(fā)。結(jié)合雙光子聚合技術(shù)(如Nanoscribe的2PP工藝),用戶可擴展至3D微納結(jié)構(gòu)打印,為微型機器人及光學超材料提供多維度解決方案37。其與Lab14集團的協(xié)同合作,進一步推動工業(yè)級光學封裝技術(shù)創(chuàng)新3。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。德國BEAM光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模全球產(chǎn)業(yè)鏈整合:德國精密制造背書,與Lab14集團共推光通信芯片封裝技術(shù)。

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一家專注于再生醫(yī)學的科研公司在組織工程支架的研究上,使用德國 Polos 光刻機取得remarkable成果。組織工程支架需要具備特定的三維結(jié)構(gòu),以促進細胞的生長和組織的修復。Polos 光刻機能夠根據(jù)預(yù)先設(shè)計的三維模型,在生物可降解材料上精確制造出復雜的孔隙結(jié)構(gòu)和表面圖案。通過該光刻機制造的支架,在動物實驗中表現(xiàn)出優(yōu)異的細胞黏附和組織生長引導能力。與傳統(tǒng)制造方法相比,使用 Polos 光刻機生產(chǎn)的支架,細胞在其上的增殖速度提高了 50%,為組織工程和再生醫(yī)學的臨床應(yīng)用提供了有力支持。

某材料實驗室利用 Polos 光刻機的亞微米級圖案化能力,在鋁合金表面制備出仿荷葉結(jié)構(gòu)的超疏水涂層。其激光直寫技術(shù)在 20μm 間距的微柱陣列上疊加 500nm 的納米脊,使材料表面接觸角達 165°,滾動角小于 3°。該涂層在海水環(huán)境中浸泡 30 天后,防腐蝕性能較未處理表面提升 10 倍。其靈活的圖案編輯功能還支持在同一樣品上實現(xiàn)超疏水與超親水區(qū)域的任意組合,被用于微流控芯片的液滴定向輸運,液滴驅(qū)動電壓降低至傳統(tǒng)方法的 1/3。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。生物界面創(chuàng)新:微納結(jié)構(gòu)可控加工,為組織工程提供新型仿生材料解決方案。

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在tumor轉(zhuǎn)移機制研究中,某tumor研究中心利用 Polos 光刻機構(gòu)建了仿生tumor微環(huán)境芯片。通過無掩模激光光刻技術(shù),在 PDMS 基底上制造出三維tumor血管網(wǎng)絡(luò)與間質(zhì)纖維化結(jié)構(gòu),其中血管直徑可精確控制在 10-50μm。實驗顯示,該芯片模擬的tumor微環(huán)境中,tumor細胞遷移速度較傳統(tǒng)二維培養(yǎng)提升 2.3 倍,且化療藥物滲透效率降低 40%,與臨床數(shù)據(jù)高度吻合。該團隊通過軟件實時調(diào)整通道曲率和細胞外基質(zhì)密度,成功復現(xiàn)了tumor細胞上皮 - 間質(zhì)轉(zhuǎn)化(EMT)過程,相關(guān)成果發(fā)表于《Cancer Research》,并被用于新型抗轉(zhuǎn)移藥物的篩選平臺開發(fā)。能源收集:微型壓電收集器效率 35%,低頻振動發(fā)電支持無源物聯(lián)網(wǎng)。廣東德國POLOS光刻機可以自動聚焦波長

環(huán)保低能耗設(shè)計:固態(tài)光源能耗較傳統(tǒng)設(shè)備降低30%,符合綠色實驗室標準。德國BEAM光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模

無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。德國BEAM光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模