核工業(yè)乏燃料處理的絕緣加工件，需耐受強輻射與核廢料腐蝕，選用玄武巖纖維增強鎂橄欖石陶瓷。通過熱壓燒結工藝（溫度 1200℃，壓力 30MPa）制備，使材料耐輻射劑量達 102?n/cm2，在硝酸（濃度 8mol/L）中浸泡 30 天后，質(zhì)量損失率≤1%。加工時采用超聲振動切削技術，在 10mm 厚板材上加工 0.3mm 寬的微流道，表面粗糙度 Ra≤1.6μm，避免放射性廢液殘留。成品在乏燃料后處理池中，可承受 100℃高溫與 0.1MPa 流體壓力，體積電阻率維持在 1011Ω?cm 以上，同時通過 10 年長期輻照測試，力學性能保留率≥85%，為核廢料分離設備提供安全絕緣保障。注塑加工件通過模流分析優(yōu)化澆口設計，減少縮水變形，成品合格率超 98%。杭州輕量化加工件價格

深海探測設備的絕緣加工件，需耐受萬米級水壓與海水腐蝕。選用超高分子量聚乙烯（UHMWPE）經(jīng)冷壓成型，在200MPa壓力下燒結成整體，使材料孔隙率≤0.01%，水滲透率≤1×10?12m/s。加工時采用金剛石車削工藝，表面粗糙度控制在Ra0.4以下，配合O型圈密封槽的精密加工（尺寸公差±0.02mm），確保在11000米深海中承受110MPa水壓不滲漏。成品經(jīng)3.5%氯化鈉溶液浸泡5000小時后，體積電阻率下降率≤5%，且沖擊強度≥80kJ/m2，滿足深海機器人電纜接頭的絕緣與耐壓需求。杭州低成本注塑加工件表面處理該絕緣件在低溫環(huán)境中仍保持良好韌性，不易開裂影響絕緣性能。

光伏追蹤系統(tǒng)注塑加工件選用耐候性 ASA 與納米二氧化鈦復合注塑，添加 5% 金紅石型 TiO?（粒徑 50nm）經(jīng)雙螺桿擠出（溫度 220℃，轉(zhuǎn)速 280rpm）均勻分散，使材料紫外線吸收率≥99%，黃變指數(shù) ΔE≤3。加工時運用低壓注塑工藝（注射壓力 80MPa），在追蹤支架連接件上成型加強筋結構（筋高 4mm，壁厚 1.5mm），配合模內(nèi)貼膜技術（PET 膜厚度 50μm）提升表面耐磨度，摩擦系數(shù)降至 0.2。成品在 QUV 加速老化測試（4000 小時）后，拉伸強度保留率≥85%，且在 - 40℃~85℃溫度循環(huán) 1000 次后，連接孔尺寸變化率≤0.1%，滿足光伏電站 25 年戶外使用的耐候與結構需求。

5G 基站天線的注塑加工件，需實現(xiàn)低介電損耗與高精度成型，采用液態(tài)硅膠（LSR）與玻璃纖維微珠復合注塑。在 LSR 原料中添加 20% 空心玻璃微珠（粒徑 10μm），通過精密計量泵（計量精度 ±0.1g）注入熱流道模具（溫度 120℃），成型后介電常數(shù)穩(wěn)定在 2.8±0.1，介質(zhì)損耗 tanδ≤0.002（10GHz）。加工時運用多組分注塑技術，同步成型天線罩與金屬嵌件，嵌件定位公差≤0.03mm，配合后電磁波透過率≥95%。成品在 - 40℃~85℃環(huán)境中經(jīng) 1000 次熱循環(huán)測試，尺寸變化率≤0.1%，且耐鹽霧腐蝕（5% NaCl 溶液，1000h）后表面無粉化，滿足戶外基站的長期穩(wěn)定運行需求。這款注塑件通過模溫控制技術，內(nèi)部應力分布均勻，減少開裂風險。

航空航天輕量化注塑加工件采用碳纖維增強 PEKK（聚醚酮酮）材料，通過高壓 RTM 工藝成型。將 T800 碳纖維（體積分數(shù) 60%）預浸 PEKK 樹脂后放入模具，在 300℃、15MPa 壓力下固化 5 小時，制得密度 1.8g/cm3、拉伸強度 1500MPa 的結構件。加工時運用五軸聯(lián)動數(shù)控銑削（轉(zhuǎn)速 50000rpm，進給量 800mm/min），在 2mm 薄壁上加工出精度 ±0.01mm 的榫卯結構，配合激光表面織構技術（坑徑 50μm）提升界面結合力。成品在 - 196℃液氮環(huán)境中測試，尺寸變化率≤0.03%，且通過 10 萬次熱循環(huán)（-150℃~200℃）后層間剪切強度保留率≥92%，滿足航天器艙門密封件的輕量化與耐極端溫度需求。這款注塑件的螺紋嵌件采用模內(nèi)注塑工藝，結合強度高于后裝配方式。杭州防腐蝕加工件定做

該注塑件的流道系統(tǒng)采用熱流道設計，減少材料浪費，提高生產(chǎn)效率。杭州輕量化加工件價格

半導體晶圓傳輸注塑加工件采用靜電耗散型 POM（聚甲醛）與碳納米管復合注塑。添加 5% 碳納米管（直徑 10nm）通過雙螺桿擠出（溫度 200℃，轉(zhuǎn)速 300rpm）實現(xiàn)均勻分散，使表面電阻穩(wěn)定在 10?-10?Ω，摩擦起電量≤0.1μC。加工時運用微注塑技術，在 1mm 厚載具上成型精度 ±3μm 的 V 型槽，槽面經(jīng)等離子體刻蝕（功率 150W，時間 60s）后粗糙度 Ra≤0.05μm，避免晶圓劃傷。成品在 Class 10 潔凈室環(huán)境中，粒子脫落量≤0.05 個 / 小時，且通過 1000 次晶圓傳輸循環(huán)測試，接觸電阻波動≤3mΩ，滿足 12 英寸晶圓的高精度、低靜電傳輸要求。杭州輕量化加工件價格