濺射鍍膜機(jī): 原理與特點(diǎn):濺射鍍膜機(jī)利用高能粒子(如氬離子)轟擊靶材,使靶材原子濺射并沉積到基體表面。該技術(shù)膜層致密、附著力強(qiáng),適合復(fù)雜工件,且可沉積材料種類多樣。優(yōu)勢:廣泛應(yīng)用于刀具硬質(zhì)涂層(如TiN、CrN)、半導(dǎo)體金屬互聯(lián)層、光伏薄膜電池等???..
鍍膜機(jī)的技術(shù)發(fā)展趨勢: 高精度與大尺寸滿足大尺寸面板(如8K電視玻璃)和微納結(jié)構(gòu)的高精度鍍膜需求。環(huán)保與節(jié)能開發(fā)低溫CVD、原子層沉積(ALD)等低能耗技術(shù),減少有害氣體排放。多功能集成結(jié)合光刻、刻蝕等工藝,實(shí)現(xiàn)復(fù)雜功能薄膜的一體化制備。智能化與自動...
裝飾領(lǐng)域: 珠寶首飾鍍膜:在珠寶、首飾表面鍍上一層金屬或合金薄膜,如鍍銀、鍍金、鍍銠等,可以增加其光澤度和美觀度,同時(shí)提高耐磨性和耐腐蝕性。此外,還可以通過鍍膜技術(shù)實(shí)現(xiàn)各種特殊的顏色和效果,滿足不同消費(fèi)者的個(gè)性化需求。家居裝飾鍍膜:在家居用品如燈具、...
增強(qiáng)耐磨性:通過在材料表面鍍上一層硬度高、耐磨性能好的薄膜,如氮化鈦、碳化鎢等涂層,可以顯著提高材料表面的硬度和抗磨損能力,延長材料的使用壽命。例如在機(jī)械加工刀具上鍍膜,可使刀具在切削過程中更耐磨損,減少刀具的更換頻率,提高加工效率。提高耐腐蝕性:鍍膜能夠在材...
早期探索(19 世紀(jì) - 20 世紀(jì)初)19 世紀(jì),真空鍍膜尚處于探索和預(yù)研發(fā)階段。1839 年,電弧蒸發(fā)研究開啟,這是對鍍膜材料氣化方式的初步嘗試,為后續(xù)發(fā)展奠定基礎(chǔ)。1852 年,科學(xué)家們將目光投向真空濺射鍍膜,開始探究利用離子轟擊使材料沉積的可能性。18...
技術(shù)突破與拓展(20 世紀(jì) 60 年代 - 80 年代)到了 60 年代,隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的興起,真空鍍膜機(jī)迎來了重要的發(fā)展契機(jī)。1965 年,寬帶三層減反射系統(tǒng)研制成功,滿足了光學(xué)領(lǐng)域?qū)Ω咝阅鼙∧さ男枨?。與此同時(shí),化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)開始應(yīng)用于硬質(zhì)合金...
提升產(chǎn)品性能:通過在物體表面鍍上一層或多層薄膜,可以顯著提高產(chǎn)品的耐磨性、耐腐蝕性、硬度、導(dǎo)電性、導(dǎo)熱性、光學(xué)性能等。例如,在刀具表面鍍膜可以提高其硬度和耐磨性,延長使用壽命;在光學(xué)鏡片上鍍膜可以增加透光率、減少反射,提高成像質(zhì)量。改善外觀品質(zhì):鍍膜能夠?yàn)楫a(chǎn)品...
實(shí)現(xiàn)特殊功能光學(xué)性能調(diào)控:在光學(xué)領(lǐng)域,鍍膜機(jī)可以通過精確控制薄膜的厚度和折射率等參數(shù),制備出具有特定光學(xué)性能的薄膜,如增透膜、反射膜、濾光膜等。這些光學(xué)薄膜廣泛應(yīng)用于相機(jī)鏡頭、望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、太陽能電池等領(lǐng)域,能夠提高光學(xué)元件的透光率、反射率等性能,改善成像質(zhì)...
二次電子的能量利用:濺射過程中產(chǎn)生的二次電子在磁場作用下被束縛在靶材表面附近,進(jìn)一步參與氣體電離,形成自持的放電過程。由于二次電子能量較低,終沉積在基片上的能量很小,基片溫升較低。 磁場分布對濺射的影響: 平衡磁控濺射:磁場在靶材表面均勻分布,...
按真空爐功能分類: 濺射鍍膜機(jī):利用電子或高能激光轟擊靶材,使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來,并沉積在基片表面形成薄膜。包括磁控濺射鍍膜機(jī)、多弧離子鍍膜機(jī)等。 磁控濺射鍍膜機(jī):廣泛應(yīng)用于電子、光電、半導(dǎo)體和納米科技等領(lǐng)域,具有薄膜制備速度...
真空腔室材質(zhì):不銹鋼(耐腐蝕、易清潔),內(nèi)壁拋光以減少薄膜沉積死角。配置: 靶材組件:多個(gè)電弧靶(可旋轉(zhuǎn)或固定),靶材材質(zhì)根據(jù)膜層需求選擇(如鈦、鉻、鋯、不銹鋼等)。 工件架:可旋轉(zhuǎn)或行星運(yùn)動,確保工件表面均勻受鍍(公轉(zhuǎn) + 自轉(zhuǎn))。 進(jìn)...
精確控制膜層:現(xiàn)代鍍膜機(jī)配備了先進(jìn)的控制系統(tǒng),可以精確控制鍍膜的厚度、成分、均勻性等參數(shù),確保每一批產(chǎn)品的鍍膜質(zhì)量穩(wěn)定一致。以半導(dǎo)體芯片制造為例,需要精確控制鍍膜厚度在納米級別,鍍膜機(jī)能夠滿足這種高精度的要求,保證芯片的性能和可靠性。適應(yīng)多種材料:鍍膜機(jī)可以在...
裝飾領(lǐng)域: 珠寶首飾鍍膜:在珠寶、首飾表面鍍上一層金屬或合金薄膜,如鍍銀、鍍金、鍍銠等,可以增加其光澤度和美觀度,同時(shí)提高耐磨性和耐腐蝕性。此外,還可以通過鍍膜技術(shù)實(shí)現(xiàn)各種特殊的顏色和效果,滿足不同消費(fèi)者的個(gè)性化需求。家居裝飾鍍膜:在家居用品如燈具、...
環(huán)保節(jié)能:與一些傳統(tǒng)的表面處理工藝相比,鍍膜機(jī)在鍍膜過程中通常不需要使用大量的化學(xué)藥品和有機(jī)溶劑,減少了廢水、廢氣的排放,對環(huán)境更加友好。同時(shí),鍍膜機(jī)的能源利用效率較高,能夠在較低的溫度和壓力下進(jìn)行鍍膜,降低了能源消耗。生產(chǎn)效率較高:鍍膜機(jī)可以實(shí)現(xiàn)自動化操作,...
鍍膜機(jī)通過以下主要方法實(shí)現(xiàn)薄膜沉積:物相沉積(PVD)真空蒸發(fā)鍍膜:在真空環(huán)境下加熱材料使其蒸發(fā),蒸汽凝結(jié)在基材表面形成薄膜。磁控濺射鍍膜:利用離子轟擊靶材,濺射出的原子沉積在基材上。離子鍍膜:結(jié)合蒸發(fā)和離子轟擊,提高薄膜的致密性和附著力?;瘜W(xué)氣相沉積(C...
光學(xué)鍍膜機(jī):用于制備增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等,廣泛應(yīng)用于光學(xué)鏡頭、眼鏡、激光器等領(lǐng)域。 電子鍍膜機(jī):用于半導(dǎo)體、集成電路的金屬化層、絕緣層沉積,如薄膜電阻器、薄膜電容器等。 裝飾鍍膜機(jī):用于手表、首飾、手機(jī)外殼等裝飾涂層,可實(shí)現(xiàn)仿金...
鍍膜機(jī)的組件: 真空系統(tǒng)提供高真空環(huán)境(通常為10?3至10?? Pa),防止薄膜材料氧化或污染。鍍膜源蒸發(fā)源(電阻加熱、電子束加熱)、濺射靶材、化學(xué)前驅(qū)體供應(yīng)裝置等?;膴A具固定和旋轉(zhuǎn)基材,確保薄膜均勻性??刂葡到y(tǒng)監(jiān)控和調(diào)節(jié)真空度、溫度、沉積速率等...
電子領(lǐng)域: 半導(dǎo)體器件制造在半導(dǎo)體芯片制造過程中,鍍膜機(jī)用于沉積各種薄膜。例如,沉積金屬薄膜作為電極,如鋁、銅等金屬薄膜可以通過氣相沉積(PVD)或化學(xué)氣相沉積(CVD)的方式在硅片等半導(dǎo)體襯底上形成。還會沉積絕緣薄膜,如二氧化硅薄膜,用于隔離不同的...
離子鍍膜機(jī):利用離子轟擊基板表面以改善涂層附著性和膜厚均勻性,適用于制備金屬、陶瓷和聚合物等材料的薄膜。蒸發(fā)鍍膜機(jī):通過加熱材料讓其蒸發(fā)并沉積在基板表面形成薄膜,包括電阻蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、電子束蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備等。蒸發(fā)鍍膜機(jī)操作簡單、制備工藝成熟,廣泛應(yīng)用于金...
技術(shù)突破與拓展(20 世紀(jì) 60 年代 - 80 年代)到了 60 年代,隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的興起,真空鍍膜機(jī)迎來了重要的發(fā)展契機(jī)。1965 年,寬帶三層減反射系統(tǒng)研制成功,滿足了光學(xué)領(lǐng)域?qū)Ω咝阅鼙∧さ男枨蟆Ec此同時(shí),化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)開始應(yīng)用于硬質(zhì)合金...
多弧離子鍍膜機(jī)是一種基于 電弧離子鍍技術(shù)(Arc Ion Plating, AIP)的真空鍍膜設(shè)備,主要用于在工件表面沉積高性能薄膜(如硬質(zhì)涂層、裝飾涂層、功能涂層等)。其原理是通過電弧放電使靶材離子化,然后在電場作用下將離子沉積到工件表面形成薄膜。該技術(shù)...
電子領(lǐng)域: 半導(dǎo)體器件制造在半導(dǎo)體芯片制造過程中,鍍膜機(jī)用于沉積各種薄膜。例如,沉積金屬薄膜作為電極,如鋁、銅等金屬薄膜可以通過氣相沉積(PVD)或化學(xué)氣相沉積(CVD)的方式在硅片等半導(dǎo)體襯底上形成。還會沉積絕緣薄膜,如二氧化硅薄膜,用于隔離不同的...
裝飾領(lǐng)域: 珠寶首飾鍍膜:在珠寶、首飾表面鍍上一層金屬或合金薄膜,如鍍銀、鍍金、鍍銠等,可以增加其光澤度和美觀度,同時(shí)提高耐磨性和耐腐蝕性。此外,還可以通過鍍膜技術(shù)實(shí)現(xiàn)各種特殊的顏色和效果,滿足不同消費(fèi)者的個(gè)性化需求。家居裝飾鍍膜:在家居用品如燈具、...
輝光放電與離子轟擊:在真空腔體內(nèi)充入惰性氣體(如氬氣),施加高壓電場使氣體電離,形成等離子體。等離子體中的正離子(如Ar?)在電場作用下加速轟擊靶材表面,將靶材原子或分子濺射出來。 磁場約束電子運(yùn)動:通過在靶材表面施加垂直電場的磁場,使電子在電場和磁...
按真空爐功能分類: 濺射鍍膜機(jī):利用電子或高能激光轟擊靶材,使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來,并沉積在基片表面形成薄膜。包括磁控濺射鍍膜機(jī)、多弧離子鍍膜機(jī)等。 磁控濺射鍍膜機(jī):廣泛應(yīng)用于電子、光電、半導(dǎo)體和納米科技等領(lǐng)域,具有薄膜制備速度...
電子領(lǐng)域: 半導(dǎo)體器件制造在半導(dǎo)體芯片制造過程中,鍍膜機(jī)用于沉積各種薄膜。例如,沉積金屬薄膜作為電極,如鋁、銅等金屬薄膜可以通過氣相沉積(PVD)或化學(xué)氣相沉積(CVD)的方式在硅片等半導(dǎo)體襯底上形成。還會沉積絕緣薄膜,如二氧化硅薄膜,用于隔離不同的...
航空航天領(lǐng)域: 飛行器零部件鍍膜:在航空發(fā)動機(jī)葉片、渦輪盤等零部件表面鍍膜,可以提高其耐高溫、抗氧化、抗腐蝕性能,延長零部件的使用壽命。例如,在發(fā)動機(jī)葉片表面鍍上熱障涂層,可以有效降低葉片的工作溫度,提高發(fā)動機(jī)的效率和可靠性。光學(xué)部件鍍膜:航空航天領(lǐng)...
二次電子的能量利用:濺射過程中產(chǎn)生的二次電子在磁場作用下被束縛在靶材表面附近,進(jìn)一步參與氣體電離,形成自持的放電過程。由于二次電子能量較低,終沉積在基片上的能量很小,基片溫升較低。 磁場分布對濺射的影響: 平衡磁控濺射:磁場在靶材表面均勻分布,...
其他優(yōu)勢: 適用范圍廣:鍍膜機(jī)可以在各種不同的材料表面進(jìn)行鍍膜,包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等,幾乎涵蓋了所有常見的材料類型。而且對于不同形狀、尺寸的工件,無論是平面、曲面還是復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu),都可以通過適當(dāng)?shù)腻兡すに囘M(jìn)行處理,具有很強(qiáng)的適應(yīng)性。環(huán)保節(jié)能...
技術(shù)突破與拓展(20 世紀(jì) 60 年代 - 80 年代)到了 60 年代,隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的興起,真空鍍膜機(jī)迎來了重要的發(fā)展契機(jī)。1965 年,寬帶三層減反射系統(tǒng)研制成功,滿足了光學(xué)領(lǐng)域?qū)Ω咝阅鼙∧さ男枨蟆Ec此同時(shí),化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)開始應(yīng)用于硬質(zhì)合金...