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南京微區(qū)衍射檢測分析

來源: 發(fā)布時間:2025-07-15

布魯克獨有的DBO功能為X射線衍射的數(shù)據(jù)質(zhì)量樹立了全新的重要基準。馬達驅(qū)動發(fā)散狹縫、防散射屏和可變探測器窗口的自動同步功能,可為您提供的數(shù)據(jù)質(zhì)量——尤其是在低2?角度時。除此之外,LYNXEYE全系列探測器均支持DBO:SSD160-2,LYNXEYE-2和LYNXEYEXE-T。LYNXEYEXE-T是LYNXEYE系列探測器的旗艦產(chǎn)品。它是目前市面上的一款可采集0D、1D和2D數(shù)據(jù)的能量色散探測器,適用于所有波長(從Cr到Ag),具有準確的計數(shù)率和角分辨率,是所有X射線衍射和散射應(yīng)用的理想選擇。對較大300 mm的樣品進行掃描、安裝和掃描重量不超過5kg的樣品、自動化接口。南京微區(qū)衍射檢測分析

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X射線衍射(XRD)和反射率是對薄層結(jié)構(gòu)樣品進行無損表征的重要方法。D8DISCOVER和DIFFRAC.SUITE軟件將有助于您使用常見的XRD方法輕松進行薄膜分析:掠入射衍射(GID):晶相表面靈敏識別及結(jié)構(gòu)性質(zhì)測定,包括微晶尺寸和應(yīng)變。X射線反射率測量(XRR):用于提取從簡單的基底到高度復雜的超晶格結(jié)構(gòu)等多層樣品的厚度、材料密度和界面結(jié)構(gòu)信息。高分辨率X射線衍射(HRXRD):用于分析外延生長結(jié)構(gòu):層厚度、應(yīng)變、弛豫、鑲嵌、混合晶體的成分分析。應(yīng)力和織構(gòu)(擇優(yōu)取向)分析。合肥石棉檢測分析X射線反射法、掠入射衍射(GID)、面內(nèi)衍射、高分辨率XRD、GISAXS、GI應(yīng)力分析、晶體取向分析。

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XRD檢測聚合物結(jié)晶度測定引言聚合物的結(jié)晶度是與其物理性質(zhì)有很大關(guān)系的結(jié)構(gòu)參數(shù)。有時,可以通過評估結(jié)晶度來確定剛度不足,裂紋,發(fā)白和其他缺陷的原因。通常,測量結(jié)晶度的方法包括密度,熱分析,NMR、IR以及XRD方法。這里將給出通過X射線衍射技術(shù)加全譜擬合法測定結(jié)晶度的方法的說明以及實例。結(jié)晶度對于含有非晶態(tài)的聚合物,其散射信號來源于兩部分:晶態(tài)的衍射峰和非晶態(tài)漫散峰。那么結(jié)晶度DOC則定義為晶態(tài)衍射峰面積與總散射信號面積的比值:

D8ADVANCEPlus是D8ADVANCE的又一版本,是面向多用途、多用戶實驗室的X射線平臺。它可理想地滿足您對所有樣品類型的需求,包括粉末、塊狀材料、纖維、片材和薄膜(非晶、多晶和外延):典型的X射線粉末衍射(XRD)對分布函數(shù)(PDF)分析小角X射線散射(SAXS)和廣角X射線散射(WAXS)X射線反射率(XRR)和高分辨XRD(搖擺曲線,倒易空間掃描)環(huán)境條件下和非環(huán)境條件下該系統(tǒng)的一大優(yōu)勢在于它能夠在多達6種不同的光束幾何之間進行切換:從用于粉末的Bragg-Brentano聚焦幾何到用于外延薄膜的高分辨率平行光束Kα1幾何以及兩者之間的切換。您只需按下按鈕,整個軟件盡在掌握。候選材料鑒別(PMI) 為常見,這是因為對其原子結(jié)構(gòu)十分靈敏,而這無法通過元素分析技術(shù)實現(xiàn)。

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汽車和航空航天:配備了UMC樣品臺的D8D的一大優(yōu)勢就是可以對大型機械零件進行殘余應(yīng)力和結(jié)構(gòu)分析以及殘余奧氏體或高溫合金表征。半導體與微電子:從過程開發(fā)到質(zhì)量控制,D8D可以對亞毫米至300mm大小的樣品進行結(jié)構(gòu)表征。制藥業(yè)篩選:新結(jié)構(gòu)測定以及多晶篩選是藥物開發(fā)的關(guān)鍵步驟,對此,D8D具有高通量篩選功能。儲能/電池:使用D8D,您將能在原位循環(huán)條件下測試電池材料,直接了當?shù)墨@取不斷變化的儲能材料的晶體結(jié)構(gòu)和相組方面的信息。使用DIFFRAC.EVA,測定小區(qū)域結(jié)構(gòu)特性。通過積分2D圖像,進行1D掃描,來進行定性相分析和微觀結(jié)構(gòu)分析。湖北XRD衍射儀

EIGER2 R 250K和500K是將Synchrotron性能帶入實驗室X射線衍射的2D檢測器。南京微區(qū)衍射檢測分析

那么,碳晶體的晶胞參數(shù)可直接用來表征其石墨化度。XRD法利用石墨的晶格常數(shù)計算石墨化度G[1]:式中:0.3440為完全非石墨化炭的(002)晶面間距,nm;0.3354為理想石墨晶體的(002)晶面間距,nm。為實際石墨試樣(002)晶面間距,nm。實例不同石墨的石墨化度為了準確的確定值或(002)峰的峰位,需要在樣品中加入內(nèi)標以校準。本文根據(jù)QJ2507-93[2]規(guī)范,用硅作為內(nèi)標物,加入待測石墨樣品中,在瑪瑙研缽中混合研磨均勻。石墨及其復合材料具有高溫下不熔融、導電導熱性能好以及化學穩(wěn)定性優(yōu)異等特點,應(yīng)用于冶金、化工、航空航天等行業(yè)。特別是近年來鋰電池的快速發(fā)展,進一步加大了石墨材料的需求。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過煅燒破碎、焙燒、高溫石墨化處理來獲取高性能人造石墨材料。石墨的質(zhì)量對電池的性能有很大影響,石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一。南京微區(qū)衍射檢測分析