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早在80年代，極紫外光刻技術(shù)就已經(jīng)開(kāi)始理論的研究和初步的實(shí) 驗(yàn)，該技術(shù) 的光源是波 長(zhǎng) 為11～14 nm的極端遠(yuǎn)紫外光，其原理主要是利用曝光光源極短的波長(zhǎng)達(dá)到提高光刻技術(shù)分辨率的目的。由于所有的光學(xué)材料對(duì)該波長(zhǎng)的光有強(qiáng)烈的吸收，所以只能采取反射式的光路。EU...

舉例來(lái)說(shuō)，對(duì)某一確定的被攝體，水平方向需要200個(gè)像素才能再現(xiàn)其細(xì)節(jié)，如果成像寬度為10mm，則光學(xué)分辨率為20線/mm的鏡頭就能勝任，如果成像寬度為1mm，則要求鏡頭的光學(xué)分辨率必須在200線/毫米以上。另一方面，傳統(tǒng)膠卷對(duì)紫外線比較敏感，外拍時(shí)常需要加裝U...

光刻系統(tǒng)是一種用于半導(dǎo)體器件制造的精密科學(xué)儀器，是制備高性能光電子和微電子器件不可或缺的**工藝設(shè)備 [1] [6-7]。其技術(shù)發(fā)展歷經(jīng)紫外（UV）、深紫外（DUV）到極紫外（EUV）階段，推動(dòng)集成電路制程不斷進(jìn)步 [3] [6]。當(dāng)前**的EUV光刻系統(tǒng)已實(shí)...

用廣角鏡頭拍攝的畫面。能在突出**主體和前景的同時(shí)，能有***的背景?？梢栽谳^小的環(huán)境里，拍到較多的景物，在相同的拍攝距離時(shí)，得到的景象比用標(biāo)準(zhǔn)鏡頭拍攝的要小。當(dāng)拍攝較近的景物時(shí)，會(huì)產(chǎn)生******變形，還會(huì)使前后景物之間的距離感增大。由于它的景深長(zhǎng)，很容易把...

電子束光刻基本上分兩大類，一類是大生產(chǎn)光掩模版制造的電子束曝光系統(tǒng)，另一類是直接在基片上直寫納米級(jí)圖形的電子束光刻系統(tǒng)。電子束光刻技術(shù)起源于掃描電鏡，**早由德意志聯(lián)邦共和國(guó)杜平根大學(xué)的G．Mollenstedt等人在20世紀(jì)60年代提出。電子束曝光的波長(zhǎng)取決...

2006年時(shí)，萊特完成了他相信幾乎正確的復(fù)制品。萊特和安提基特拉機(jī)械研究計(jì)劃成員仍同時(shí)進(jìn)行安提基特拉機(jī)械的研究。萊特稍微修改他的模型，引進(jìn)了計(jì)劃團(tuán)隊(duì)建議的針狀和槽狀嚙合齒輪，這更精確模擬了月球的角速度異常變化。2007年3月6日他在希臘的雅典國(guó)家考古博物館展示...

四是，鏡頭的焦距越長(zhǎng)，相機(jī)就必須把握得越穩(wěn)定，以避免影像模糊。經(jīng)驗(yàn)準(zhǔn)則是只有當(dāng)快門速度至少等于鏡頭焦距毫米數(shù)的倒數(shù)時(shí)才能夠手持鏡頭進(jìn)行拍攝，也稱為“安全快門”。也就是說(shuō)，當(dāng)快門速度低于1/100秒時(shí)就不能手持100mm鏡頭拍攝，低于1/500秒時(shí)就不能手持50...

目前，安提基特拉機(jī)械已被基本復(fù)原。 [5]以下是托尼·弗里思研究團(tuán)隊(duì)的***復(fù)原成果。安提基特拉裝置的制作者無(wú)論使用什么周期數(shù)據(jù)，都需要遵循三個(gè)標(biāo)準(zhǔn)：精確性、可分解性與經(jīng)濟(jì)性。簡(jiǎn)省且高效，是安提基特拉裝置齒輪傳動(dòng)系統(tǒng)的一個(gè)關(guān)鍵特征。新的行星周期數(shù)據(jù)可以納入齒輪...

德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯提出該裝置可能是公開(kāi)展示，地點(diǎn)或許是羅德島上的博物館或公共會(huì)堂。羅德島在當(dāng)時(shí)是以機(jī)械工程聞名，尤其是羅德島人擅長(zhǎng)的自動(dòng)機(jī)械。古希臘九大抒情詩(shī)人中的品達(dá)在他的第七首奧林匹克頌中提及：The animated figures stand...

攝影者也許會(huì)有這樣的體會(huì)：在照相機(jī)上裝上一個(gè)遠(yuǎn)攝鏡頭并從單鏡頭反光照相機(jī)取景器中觀察，竟一時(shí)無(wú)法想象充盈于取景器畫面的景象在何方位，不得已，只好將眼睛離開(kāi)照相機(jī)取景目鏡眺望實(shí)景，方搞清楚原來(lái)是鏡頭視野太窄，它所“見(jiàn)”到的只是人眼通常所見(jiàn)到的畫面中相當(dāng)小的一部分...

其主要成像原理是光波波長(zhǎng)為10～14nm的極端遠(yuǎn)紫外光波經(jīng)過(guò)周期性多層膜反射鏡投射到反射式掩模版上，通過(guò)反射式掩模版反射出的極紫外光波再通過(guò)由多面反射鏡組成的縮小投影系統(tǒng)，將反射式掩模版上的集成電路幾何圖形投影成像到硅片表面的光刻膠中，形成集成電路制造所需要的...

長(zhǎng)焦距鏡頭適于拍攝距離遠(yuǎn)的景物，景深小容易使背景模糊主體突出，但體積笨重且對(duì)動(dòng)態(tài)主體對(duì)焦不易。35mm 相機(jī)長(zhǎng)焦距鏡頭通常分為三級(jí)，135mm以下稱中焦距，135－500mm稱長(zhǎng)焦距，500mm 以上稱超長(zhǎng)焦距。120 相機(jī)的150mm的鏡頭相當(dāng)于35mm相機(jī)...

魚眼鏡頭的體積較大。以適用于35毫米單鏡頭反光照相機(jī)的魚眼鏡頭為例，當(dāng)將這種魚眼鏡頭安裝在體積較小的35毫米單鏡頭反光照相機(jī)機(jī)身上時(shí)，有一種“頭（鏡頭）大身體（機(jī)身）小”的感覺(jué)，且由于魚眼鏡頭重量不輕（如尼柯?tīng)?毫米/F2.8手動(dòng)對(duì)焦魚眼鏡頭重達(dá)5200克），...

38、卸料螺釘卸料螺釘是固定在彈壓卸料板上的螺釘，用于限制彈壓卸料板的靜止位置。39、單工序模單工序模是在壓力機(jī)一次行程中只完成一道工序的沖模。40、廢料切刀廢料切刀有兩種。1．裝于拉深件凸緣切邊模上用于割斷整圈切邊廢料以利***的切刀。2．裝于壓力機(jī)或模具上...

安提基特拉機(jī)械以其小型化和其部分裝置的復(fù)雜性可與19世紀(jì)機(jī)械鐘表相比而聞名。它有超過(guò)30個(gè)齒輪，雖然麥可·萊特認(rèn)為它可多達(dá)72個(gè)有正三角形齒的齒輪。當(dāng)借由一個(gè)曲柄輸入一個(gè)日期，該機(jī)械就可算出日月或行星等其他天**置。因?yàn)樵摍C(jī)械是以地球表面觀測(cè)天球者為參考座標(biāo)，...

對(duì)準(zhǔn)對(duì)準(zhǔn)方法：a、預(yù)對(duì)準(zhǔn)，通過(guò)硅片上的notch或者flat進(jìn)行激光自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)；b、通過(guò)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)志（Align Mark），位于切割槽（Scribe Line）上。另外層間對(duì)準(zhǔn)，即套刻精度（Overlay），保證圖形與硅片上已經(jīng)存在的圖形之間的對(duì)準(zhǔn)。曝光曝光中**...

***，安提基特拉機(jī)械前方面板是現(xiàn)代天文年鑒的前身（Parapegma），可以設(shè)定標(biāo)記特定恒星的升起。一般認(rèn)為每顆恒星都以機(jī)械上一個(gè)希臘文字母做標(biāo)記。在機(jī)械后面上方的轉(zhuǎn)盤是螺旋形，每次旋轉(zhuǎn)分成47個(gè)部分，**19年或235個(gè)朔望月的默冬章。該循環(huán)對(duì)于歷法修正很...

得指出的是，EUV光刻技術(shù)的研發(fā)始于20世紀(jì)80年代。**早希望在半周期為70nm的節(jié)點(diǎn)（對(duì)應(yīng)邏輯器件130nm節(jié)點(diǎn)）就能用上EUV光刻機(jī) [1]。可是，這一技術(shù)一直達(dá)不到晶圓廠量產(chǎn)光刻所需要的技術(shù)指標(biāo)和產(chǎn)能要求。一拖再拖，直到2016年，EUV光刻機(jī)仍然沒(méi)能...

制造掩模版，比較靈活。但由于其曝光效率低，主要用于實(shí)驗(yàn)室小樣品納米制造。而電子束曝光要適應(yīng)大批量生產(chǎn)，如何進(jìn)一步提高曝光速度是個(gè)難題。為了解決電子束光刻的效率問(wèn)題，通常將其與其他光刻技術(shù)配合使用。例如為解決曝光效率問(wèn)題，通常采用電子束光刻與光學(xué)光刻進(jìn)行匹配與混...

b、堅(jiān)膜，以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護(hù)下表面的能力；c、進(jìn)一步增強(qiáng)光刻膠與硅片表面之間的黏附性；d、進(jìn)一步減少駐波效應(yīng)（Standing Wave Effect）。常見(jiàn)問(wèn)題：a、烘烤不足（Underbake）。減弱光刻膠的強(qiáng)度（抗刻蝕能力和離子注入中的阻...

5、刃壁刃壁是沖裁凹模孔刃口的側(cè)壁。6、刃口斜度刃口斜度是沖裁凹?？兹斜诘拿總?cè)斜度。7、氣墊氣墊是以壓縮空氣為原動(dòng)力的彈頂器。參閱“彈頂器”。8、反側(cè)壓塊反側(cè)壓塊是從工作面的另一側(cè)支持單向受力凸模的零件。9、導(dǎo)套導(dǎo)套是為上、下模座相對(duì)運(yùn)動(dòng)提供精密導(dǎo)向的管狀零件...

四是，鏡頭的焦距越長(zhǎng)，相機(jī)就必須把握得越穩(wěn)定，以避免影像模糊。經(jīng)驗(yàn)準(zhǔn)則是只有當(dāng)快門速度至少等于鏡頭焦距毫米數(shù)的倒數(shù)時(shí)才能夠手持鏡頭進(jìn)行拍攝，也稱為“安全快門”。也就是說(shuō)，當(dāng)快門速度低于1/100秒時(shí)就不能手持100mm鏡頭拍攝，低于1/500秒時(shí)就不能手持50...

鏡頭的改變：在相同物距 和光圈的情況下，使用不同焦距的鏡頭可改變景深，鏡頭焦距越短，**深越大，對(duì)于超廣角鏡（8---15毫米），景深非常大，以致無(wú)需調(diào)焦，因?yàn)槊恳患?jí)光圈的景深都是清晰。光學(xué)工業(yè)鏡頭***用于反射度極高的物體定位檢測(cè)，如：金屬、玻璃、膠片、晶片...

2、廣角鏡頭使用遮光罩或?yàn)V色鏡時(shí)，很容易遮擋鏡頭視角的周圍，使像場(chǎng)發(fā)暗，而這一情況，在取景時(shí)不容易察覺(jué)，但在照片上卻很明顯。因此，運(yùn)用附件時(shí)， 一定要從說(shuō)明書上了解清楚它們的使用范圍。如果說(shuō)明書中沒(méi)有說(shuō)明，拍攝時(shí)就要加倍小心。3、電子閃光燈閃光涵蓋角一般與13...

用廣角鏡頭拍攝的畫面。能在突出**主體和前景的同時(shí)，能有***的背景?？梢栽谳^小的環(huán)境里，拍到較多的景物，在相同的拍攝距離時(shí)，得到的景象比用標(biāo)準(zhǔn)鏡頭拍攝的要小。當(dāng)拍攝較近的景物時(shí)，會(huì)產(chǎn)生******變形，還會(huì)使前后景物之間的距離感增大。由于它的景深長(zhǎng)，很容易把...

光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對(duì)光敏感的混合液體。在光刻工藝過(guò)程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導(dǎo)體材料在表面加工時(shí)...

攝影者也許會(huì)有這樣的體會(huì)：在照相機(jī)上裝上一個(gè)遠(yuǎn)攝鏡頭并從單鏡頭反光照相機(jī)取景器中觀察，竟一時(shí)無(wú)法想象充盈于取景器畫面的景象在何方位，不得已，只好將眼睛離開(kāi)照相機(jī)取景目鏡眺望實(shí)景，方搞清楚原來(lái)是鏡頭視野太窄，它所“見(jiàn)”到的只是人眼通常所見(jiàn)到的畫面中相當(dāng)小的一部分...

德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯提出該裝置可能是公開(kāi)展示，地點(diǎn)或許是羅德島上的博物館或公共會(huì)堂。羅德島在當(dāng)時(shí)是以機(jī)械工程聞名，尤其是羅德島人擅長(zhǎng)的自動(dòng)機(jī)械。古希臘九大抒情詩(shī)人中的品達(dá)在他的第七首奧林匹克頌中提及：The animated figures stand...

校準(zhǔn)的基本要求校準(zhǔn)應(yīng)滿足的基本要求如下：1.環(huán)境條件校準(zhǔn)如在檢定(校準(zhǔn))室進(jìn)行，則環(huán)境條件應(yīng)滿足實(shí)驗(yàn)室要求的溫度、濕度等規(guī)定。校準(zhǔn)如在現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行，則環(huán)境條件以能滿足儀表現(xiàn)場(chǎng)使用的條件為準(zhǔn)。2.儀器作為校準(zhǔn)用的標(biāo)準(zhǔn)儀器其誤差限應(yīng)是被校表誤差限的1/3~1/10。3...

鏡頭的改變：在相同物距 和光圈的情況下，使用不同焦距的鏡頭可改變景深，鏡頭焦距越短，**深越大，對(duì)于超廣角鏡（8---15毫米），景深非常大，以致無(wú)需調(diào)焦，因?yàn)槊恳患?jí)光圈的景深都是清晰。光學(xué)工業(yè)鏡頭***用于反射度極高的物體定位檢測(cè)，如：金屬、玻璃、膠片、晶片...