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手動光圈變焦鏡頭焦距可變的，有一個焦距調整環(huán)，可以在一定范圍內調整鏡頭的焦距，其可變比一般為2 ～3倍，焦距一般為3.6~8mm。實際應用中，可通過手動調節(jié)鏡頭的變焦環(huán)，可以方便地選擇被監(jiān)視地市場的市場角。但是當攝像機安裝位置固定下以后，在頻繁地手動調整變焦是...

廣角鏡頭的基本特點是，鏡頭視角大，視野寬闊。從某一視點觀察到的景物范圍要比人眼在同一視點所看到的大得多；景深長，可以表現(xiàn)出相當大的清晰范圍；能強調畫面的******效果，善于夸張前景和表現(xiàn)景物的遠近感，這有利于增強畫面的***力。 [1]焦距比標準鏡頭 短，但...

b、堅膜，以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護下表面的能力；c、進一步增強光刻膠與硅片表面之間的黏附性；d、進一步減少駐波效應（Standing Wave Effect）。常見問題：a、烘烤不足（Underbake）。減弱光刻膠的強度（抗刻蝕能力和離子注入中的阻...

6.齒輪傳動箱上蓋拆卸,內部機件磨損及鍵位松動狀況之檢查并進行油槽清洗,潤滑油換新及運轉狀況,噪音,振動測試檢查.7.傳動系統(tǒng)各部位注油點之吐出油量及壓力測試與調整.8.離剎機構之活塞動作,剎車角度,離剎間隙及來令片磨耗量之測試點檢與必要調整.9.滑快導軌與導...

在曝光過程中，需要對不同的參數(shù)和可能缺陷進行跟蹤和控制，會用到檢測控制芯片/控片（Monitor Chip）。根據(jù)不同的檢測控制對象，可以分為以下幾種：a、顆?？仄≒article MC）：用于芯片上微小顆粒的監(jiān)控，使用前其顆粒數(shù)應小于10顆；b、卡盤顆?？?..

半導體器件和集成電路對光刻曝光技術提出了越來越高的要求，在單位面積上要求完善傳遞圖像的信息量已接近常規(guī)光學的極限。光刻曝光的常用波長是3650～4358 埃，預計實用分辨率約為1微米。幾何光學的原理，允許將波長向下延伸至約2000埃的遠紫外波長，此時可達到的實...

28、頂板頂板是在凹?；蚰K內活動的板狀零件，以向上動作直接或間接頂出工（序）件或廢料。29、齒圈齒圈是精沖凹?；驇X壓料板上的成圈齒形突起，是凹?；驇X壓料板的局部結構而不是單獨的零件。30、限位套限位套是用于限制沖模**小閉合高度的管狀零件，一般套于導柱外...

b、堅膜，以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護下表面的能力；c、進一步增強光刻膠與硅片表面之間的黏附性；d、進一步減少駐波效應（Standing Wave Effect）。常見問題：a、烘烤不足（Underbake）。減弱光刻膠的強度（抗刻蝕能力和離子注入中的阻...

廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。135照相機普通廣角鏡頭的焦距一般為38－24毫米，視角為60－84度；超廣角鏡頭的焦距為20－13毫米，視角為94-118度。由于廣角鏡頭的焦距短，視角大，在較短的拍攝距離范圍內，能拍攝到較大面積的景物。所以，**...

我們建議攝影入門用戶在攝影學習階段，除了相機上已經(jīng)配備的套裝鏡頭之外，不必再購買任何鏡頭。以后成為“高手”時，再考慮較長焦距的鏡頭。即使到那時，除非對遠攝鏡頭具有特殊的需求，并且資金也不成問題，否則我們建議不要考慮超過200mm的任何鏡頭。如果偶爾需要遠攝鏡頭...

機械手關節(jié)減速機是一種通過電機驅動實現(xiàn)自動化角度調整的精密傳動裝置，具有重復定位精度≤5秒的特點，適配AC伺服或步進馬達。其穩(wěn)重承載能力和高精度特性使其廣泛應用于精密加工機床、航太工業(yè)、半導體設備、印刷機械，食品包裝、自動化產業(yè)、工業(yè)機器人、醫(yī)療檢驗、精密測試...

已找到一個制造于5或6世紀拜占庭帝國，和一個日晷相連接的日期齒輪的殘?。辉搩x器可能是做為報時輔助。在**世界中，西元9世紀早期阿拉伯帝國的哈里發(fā)委托巴努·穆薩寫下的《巧妙設備之書》（Book of Ingenious Devices，暫譯）。該書描述了超過一百...

c、水坑（旋覆浸沒）式顯影（Puddle Development）。噴覆足夠（不能太多，**小化背面濕度）的顯影液到硅片表面，并形成水坑形狀（顯影液的流動保持較低，以減少邊緣顯影速率的變化）。硅片固定或慢慢旋轉。一般采用多次旋覆顯影液：***次涂覆、保持10～...

至少有一個阿基米德制造的儀器相當類似安提基特拉機械，而且直到大約西元前150年仍在使用。西塞羅提到的任何一個儀器或許并不是在沉船中找到的安提基特拉機械，因為阿基米德的設計和西塞羅所提的都是在預測的船沉日期之后至少30年的羅馬，而且第三個儀器幾乎確定在當時是在波...

德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯提出該裝置可能是公開展示，地點或許是羅德島上的博物館或公共會堂。羅德島在當時是以機械工程聞名，尤其是羅德島人擅長的自動機械。古希臘九大抒情詩人中的品達在他的第七首奧林匹克頌中提及：The animated figures stand...

特點長焦鏡頭以適用于35毫米單鏡頭反光照相機的交換鏡頭為例，遠攝鏡頭通常是指焦距約在80至400毫米之間的攝影鏡頭。遠攝鏡頭**基本的特點是，鏡頭視角小，所以視野范圍相對狹窄；能把遠處的景物拉近，使之充滿畫面，具有“望遠”的功能，從而使景物的遠近感消失；縮短了...

光刻系統(tǒng)是一種用于半導體器件制造的精密科學儀器，是制備高性能光電子和微電子器件不可或缺的**工藝設備 [1] [6-7]。其技術發(fā)展歷經(jīng)紫外（UV）、深紫外（DUV）到極紫外（EUV）階段，推動集成電路制程不斷進步 [3] [6]。當前**的EUV光刻系統(tǒng)已實...

早在80年代，極紫外光刻技術就已經(jīng)開始理論的研究和初步的實 驗，該技術 的光源是波 長 為11～14 nm的極端遠紫外光，其原理主要是利用曝光光源極短的波長達到提高光刻技術分辨率的目的。由于所有的光學材料對該波長的光有強烈的吸收，所以只能采取反射式的光路。EU...

浸沒式光刻技術所面臨的挑戰(zhàn)主要有：如何解決曝光中產生的氣泡和污染等缺陷的問題；研發(fā)和水具有良好的兼容性且折射率大于1．8的光刻膠的問題；研發(fā)折射率較大的光學鏡頭材料和浸沒液體材料；以 及 有 效 數(shù) 值 孔 徑NA值 的 拓 展 等 問題。針 對 這 些 難 ...

光學變焦是通過鏡頭、物體和焦點三方的位置發(fā)生變化而產生的。當成像面在水平方向運動的時候，視覺和焦距就會發(fā)生變化，更遠的景物變得更清晰，讓人感覺像物體遞進的感覺。顯而易見，要改變視角必然有兩種辦法，一種是改變鏡頭的焦距。用攝影的話來說，這就是光學變焦。通過改變變...

主要流程光復印工藝的主要流程如圖2：曝光方式常用的曝光方式分類如下：接觸式曝光和非接觸式曝光的區(qū)別，在于曝光時掩模與晶片間相對關系是貼緊還是分開。接觸式曝光具有分辨率高、復印面積大、復印精度好、曝光設備簡單、操作方便和生產效率高等特點。但容易損傷和沾污掩模版和...

對于新影像的進一步研究促使萊特提出新看法。首先他將普萊斯的模式進一步發(fā)展，認為該儀器相當于一個天象儀。萊特的天象儀不只可模擬日月運動，還可顯示內側行星（水星和金星）和外側行星（火星、木星和土星）的運動。萊特提出該機械的日月運動是基于喜帕恰斯的理論，五顆古典行星...

b、堅膜，以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護下表面的能力；c、進一步增強光刻膠與硅片表面之間的黏附性；d、進一步減少駐波效應（Standing Wave Effect）。常見問題：a、烘烤不足（Underbake）。減弱光刻膠的強度（抗刻蝕能力和離子注入中的阻...

b、接近式曝光（Proximity Printing）。掩膜板與光刻膠層的略微分開，大約為10～50μm?？梢员苊馀c光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷。但是同時引入了衍射效應，降低了分辨率。1970后適用，但是其最大分辨率*為2～4μm。c、投影式曝光（Proj...

準分子光刻技術作為當前主流的光刻技術，主要包括：特征尺寸為0．1μm的248 nm KrF準分子激光技術；特征尺寸為90 nm的193 nm ArF準分子激光技術；特征尺寸為65 nm的193 nm ArF浸沒式技術（Immersion，193i）。其中193...

我們建議攝影入門用戶在攝影學習階段，除了相機上已經(jīng)配備的套裝鏡頭之外，不必再購買任何鏡頭。以后成為“高手”時，再考慮較長焦距的鏡頭。即使到那時，除非對遠攝鏡頭具有特殊的需求，并且資金也不成問題，否則我們建議不要考慮超過200mm的任何鏡頭。如果偶爾需要遠攝鏡頭...

兩種工藝常規(guī)光刻技術是采用波長為2000～4500埃的紫外光作為圖像信息載體，以光致抗蝕劑為中間（圖像記錄）媒介實現(xiàn)圖形的變換、轉移和處理，**終把圖像信息傳遞到晶片(主要指硅片)或介質層上的一種工藝。在廣義上，它包括光復印和刻蝕工藝兩個主要方面。①光復印工藝...

⒊定焦廣角鏡頭一般都比涵蓋相應焦距段的變焦鏡頭體積小，重量輕。這能使你的相機將不那么扎眼，便于抓拍。⒋廣角定焦鏡頭一般都比變焦鏡頭的廣角段成像好，這是鏡頭的設計所決定的，變焦鏡頭由于要考慮所有焦距段都有相對好的成像，就要**局部的利益讓整體有一個相對好的表現(xiàn)。...

11、導柱導柱是為上、下模座相對運動提供精密導向的圓柱形零件，多數(shù)固定在下模座，與固定在上模座的導套配合使用。12、導正銷導正銷是伸入材料孔中導正其在凹模內位置的銷形零件。13、導板模導板模是以導板作導向的沖模，模具使用時凸模不脫離導板。14、導料板導料板是引...

浸沒式光刻機是通過在物鏡與晶圓之間注入超純水，等效縮短光源波長并提升數(shù)值孔徑，從而實現(xiàn)更高分辨率的半導體制造**設備。2024年9月工信部文件顯示，國產氟化氬浸沒式光刻機套刻精度已達到≤8nm水平。該技術研發(fā)涉及浸液系統(tǒng)、光學控制等多項復雜工藝，林本堅團隊在浸...