選購(gòu)廣角數(shù)碼相機(jī)時(shí)除了要注意相機(jī)的整體性能外,還需要著重考察其鏡頭表現(xiàn)。鏡頭畸變情況是我們首先需要考慮的因素。一般來(lái)說(shuō)廣角下拍攝更容易產(chǎn)生畸變,但不同的相機(jī)所拍攝的照片變形的程度也不同,總體而言畸變?cè)捷p微越好。其次也要注意畫(huà)面的解析度,由于受到成本的限制,數(shù)碼...
●高剛性高剛性、高精密的構(gòu)架,采用鋼板焊接,并經(jīng)熱處理、消除床身內(nèi)應(yīng)力?!裰匦钠胶?.傳動(dòng)中心與機(jī)器整體的中心趨于一致,確保沖壓的精確、穩(wěn)定?!癫僮鞣€(wěn)定、安全離合器/剎車(chē)器裝置高度靈敏,再加國(guó)際前列的雙聯(lián)電磁閥和過(guò)負(fù)荷保護(hù)裝置,確保沖床滑塊運(yùn)轉(zhuǎn)及停止的精確性與...
光刻技術(shù)是現(xiàn)代集成電路設(shè)計(jì)上一個(gè)比較大的瓶頸。現(xiàn)cpu使用的45nm、32nm工藝都是由193nm液浸式光刻系統(tǒng)來(lái)實(shí)現(xiàn)的,但是因受到波長(zhǎng)的影響還在這個(gè)技術(shù)上有所突破是十分困難的,但是如采用EUV光刻技術(shù)就會(huì)很好的解決此問(wèn)題,很可能會(huì)使該領(lǐng)域帶來(lái)一次飛躍。但是涉...
鏡頭的另一個(gè)重點(diǎn)在變焦能力。所謂的變焦能力包括光學(xué)變焦(optical zoom)與數(shù)碼變焦(digital zoom)兩種。兩者雖然都有助于望遠(yuǎn)拍攝時(shí)放大遠(yuǎn)方物體,但是只有光學(xué)變焦可以支持圖像主體成像后,增加更多的像素,讓主體不但變大,同時(shí)也相對(duì)更清晰。通常...
長(zhǎng)焦距鏡頭是指比標(biāo)準(zhǔn)鏡頭的焦距長(zhǎng)的攝影鏡頭。長(zhǎng)焦距鏡頭分為普通遠(yuǎn)攝鏡頭和超遠(yuǎn)攝鏡頭兩類(lèi)。普通遠(yuǎn)攝鏡頭的焦距長(zhǎng)度接近標(biāo)準(zhǔn)鏡頭,而超遠(yuǎn)攝鏡頭的焦距卻遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭。以135照相機(jī)為例,其鏡頭焦距從85毫米-300毫米的攝影鏡頭為普通遠(yuǎn)攝鏡頭,300毫米以上的為超...
更精確的齒輪齒數(shù)此時(shí)也已得知,因此可進(jìn)一步發(fā)展新的齒輪配置模式。更正確的資訊允許萊特可以確認(rèn)普萊斯建議的后方面板的上方轉(zhuǎn)盤(pán)是顯示235個(gè)朔望月,分成五個(gè)旋轉(zhuǎn)量度的默冬章。此外,萊特還提出了驚人的看法,他認(rèn)為儀器后面的上方轉(zhuǎn)盤(pán)是每次旋轉(zhuǎn)包含47個(gè)部分,總共五個(gè)旋...
魚(yú)眼鏡頭的體積較大。以適用于35毫米單鏡頭反光照相機(jī)的魚(yú)眼鏡頭為例,當(dāng)將這種魚(yú)眼鏡頭安裝在體積較小的35毫米單鏡頭反光照相機(jī)機(jī)身上時(shí),有一種“頭(鏡頭)大身體(機(jī)身)小”的感覺(jué),且由于魚(yú)眼鏡頭重量不輕(如尼柯?tīng)?毫米/F2.8手動(dòng)對(duì)焦魚(yú)眼鏡頭重達(dá)5200克),...
涂底方法:a、氣相成底膜的熱板涂底。HMDS蒸氣淀積,200~250C,30秒鐘;優(yōu)點(diǎn):涂底均勻、避免顆粒污染;b、旋轉(zhuǎn)涂底。缺點(diǎn):顆粒污染、涂底不均勻、HMDS用量大。目的:使表面具有疏水性,增強(qiáng)基底表面與光刻膠的黏附性旋轉(zhuǎn)涂膠方法:a、靜態(tài)涂膠(Stati...
世界上***部糾偏裝置,英文:Deviation rectifying device,是美塞斯的FIFE糾發(fā)明的,是糾偏裝置是電子糾偏系統(tǒng)的心臟。糾偏裝置是一種修正卷材在向前運(yùn)動(dòng)中出現(xiàn)的側(cè)邊誤差的機(jī)械裝置,位移式糾偏是通過(guò)更改卷材在進(jìn)口和出口跨度來(lái)實(shí)現(xiàn)卷材側(cè)邊...
世界三 大光刻機(jī) 生產(chǎn)商ASML,Nikon和Cannon的*** 代 浸 沒(méi) 式 光 刻 機(jī) 樣 機(jī) 都 是 在 原 有193nm干式光刻機(jī)的基礎(chǔ)上改進(jìn)研制而成,**降低了研發(fā)成本和風(fēng)險(xiǎn)。因?yàn)榻](méi)式光刻系統(tǒng)的原理清晰而且配合現(xiàn)有的光刻技術(shù)變動(dòng)不大,目前193...
現(xiàn)代學(xué)者的共識(shí)是該機(jī)械是在希臘語(yǔ)使用區(qū)域制造,所有機(jī)械上組件的文字都是通用希臘語(yǔ)。一種假說(shuō)認(rèn)為,該機(jī)械是在希臘當(dāng)時(shí)的天文和機(jī)械工程中心羅德島上的斯多亞學(xué)派學(xué)者波希多尼制造,而天文學(xué)家喜帕恰斯參與了設(shè)計(jì),因?yàn)樵摍C(jī)械采用了喜帕恰斯的月球運(yùn)動(dòng)理論。但由安提基特拉機(jī)械...
能強(qiáng)調(diào)前景和突出遠(yuǎn)近對(duì)比。這是廣角鏡頭的另一個(gè)重要性能。所謂強(qiáng)調(diào)前景和突出遠(yuǎn)近對(duì)比,是指廣角鏡頭能比其他鏡頭更加強(qiáng)調(diào)近大遠(yuǎn)小的對(duì)比度。也就是說(shuō),用廣角鏡頭拍出來(lái)的照片,近的東西更大,遠(yuǎn)的東西更小,從而讓人感到拉開(kāi)了距離,在縱深方向上產(chǎn)生強(qiáng)烈的******效果。...
主要流程光復(fù)印工藝的主要流程如圖2:曝光方式常用的曝光方式分類(lèi)如下:接觸式曝光和非接觸式曝光的區(qū)別,在于曝光時(shí)掩模與晶片間相對(duì)關(guān)系是貼緊還是分開(kāi)。接觸式曝光具有分辨率高、復(fù)印面積大、復(fù)印精度好、曝光設(shè)備簡(jiǎn)單、操作方便和生產(chǎn)效率高等特點(diǎn)。但容易損傷和沾污掩模版和...
兩種工藝常規(guī)光刻技術(shù)是采用波長(zhǎng)為2000~4500埃的紫外光作為圖像信息載體,以光致抗蝕劑為中間(圖像記錄)媒介實(shí)現(xiàn)圖形的變換、轉(zhuǎn)移和處理,**終把圖像信息傳遞到晶片(主要指硅片)或介質(zhì)層上的一種工藝。在廣義上,它包括光復(fù)印和刻蝕工藝兩個(gè)主要方面。①光復(fù)印工藝...
廣角鏡頭又稱(chēng)短鏡頭。攝影輔助鏡頭的一種。鏡頭焦距***地小于像場(chǎng)直徑(底片對(duì)角線長(zhǎng)度),約為6~35毫米;視角大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭,約為53°以上直至220°。相對(duì)口徑一般較小。廣角透鏡在十九世紀(jì)六十年代快直光鏡頭出現(xiàn)后即產(chǎn)生,此后經(jīng)種種演變,已成攝影鏡頭中一個(gè)重要類(lèi)...
42、始用擋料銷(xiāo)(板)始用擋料銷(xiāo)(板)是供材料起始端部送進(jìn)時(shí)定位用的零件。始用擋料銷(xiāo)(板)都是移動(dòng)式的。43、拼塊塊是組成一個(gè)完整凹模、凸模、卸料板或固定板等的各個(gè)拼合零件。44、擋塊(板)擋塊(板)是供經(jīng)側(cè)刃切出缺口的材料送進(jìn)時(shí)定位用的淬硬零件,兼用以平衡側(cè)...
2019年荷蘭阿斯麥公司推出新一代極紫外光刻系統(tǒng),**了當(dāng)今**的第五代光刻系統(tǒng),可望將摩爾定律物理極限推向新的高度 [5]。中國(guó)工程院《Engineering》期刊于2021年組建跨學(xué)科評(píng)選委員會(huì),通過(guò)全球**提名、公眾問(wèn)卷等多階段評(píng)審,選定近五年內(nèi)完成且具...
凸模是沖模中起直接形成沖件作用的凸形工作零件,即以外形為工作表面的零件。18、凹模凹模是沖模中起直接形成沖件作用的凹形工作零件,即以?xún)?nèi)形為工作表面的零件。19、防護(hù)板防護(hù)板是防止手指或異物進(jìn)入沖模危險(xiǎn)區(qū)域的板狀零件。20、壓料板(圈)壓料板(圈)是沖模中用于壓...
鏡頭的另一個(gè)重點(diǎn)在變焦能力。所謂的變焦能力包括光學(xué)變焦(optical zoom)與數(shù)碼變焦(digital zoom)兩種。兩者雖然都有助于望遠(yuǎn)拍攝時(shí)放大遠(yuǎn)方物體,但是只有光學(xué)變焦可以支持圖像主體成像后,增加更多的像素,讓主體不但變大,同時(shí)也相對(duì)更清晰。通常...
商用級(jí)的數(shù)碼相機(jī)中多使用與普通35 mm相機(jī)相同的普通廣角鏡頭,由于其在景深深,拍攝范圍廣等優(yōu)點(diǎn),因而在選擇數(shù)碼相機(jī)時(shí),同樣性能的數(shù)碼相機(jī),能夠具有廣角和遠(yuǎn)距的數(shù)碼相機(jī)將會(huì)性能更好一些。按結(jié)構(gòu)固定光圈定焦鏡頭光學(xué)鏡頭實(shí)例簡(jiǎn)單:鏡頭只有一個(gè)可以手動(dòng)調(diào)整的對(duì)焦調(diào)整...
鏡頭的另一個(gè)重點(diǎn)在變焦能力。所謂的變焦能力包括光學(xué)變焦(optical zoom)與數(shù)碼變焦(digital zoom)兩種。兩者雖然都有助于望遠(yuǎn)拍攝時(shí)放大遠(yuǎn)方物體,但是只有光學(xué)變焦可以支持圖像主體成像后,增加更多的像素,讓主體不但變大,同時(shí)也相對(duì)更清晰。通常...
光刻機(jī)系統(tǒng)是材料科學(xué)領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,通過(guò)光學(xué)成像原理將掩模版上的微細(xì)圖形精確轉(zhuǎn)移到光刻膠表面。系統(tǒng)配置1Kw近紫外光源與6V/30W顯微鏡燈適配器,配備氣動(dòng)防震臺(tái)保障精密操作環(huán)境,其技術(shù)參數(shù)截至2020年11月24日仍在使用 [1]。通過(guò)光化學(xué)反應(yīng)將掩模版上的...
電子束光刻基本上分兩大類(lèi),一類(lèi)是大生產(chǎn)光掩模版制造的電子束曝光系統(tǒng),另一類(lèi)是直接在基片上直寫(xiě)納米級(jí)圖形的電子束光刻系統(tǒng)。電子束光刻技術(shù)起源于掃描電鏡,**早由德意志聯(lián)邦共和國(guó)杜平根大學(xué)的G.Mollenstedt等人在20世紀(jì)60年代提出。電子束曝光的波長(zhǎng)取決...
集成電路制造中利用光學(xué)- 化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法,將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上,形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術(shù)。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2~3個(gè)數(shù)量級(jí)(從毫米級(jí)到亞微米級(jí)),已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、...
放大率問(wèn)題:光學(xué)鏡頭放大率問(wèn)題,很多客戶(hù)可能對(duì)鏡頭放大率不了解或者認(rèn)識(shí)不多,所以造成了對(duì)鏡頭使用的錯(cuò)誤操作或者選購(gòu)不到合適的鏡頭,因此,普密斯光學(xué)針對(duì)這一問(wèn)題進(jìn)行專(zhuān)業(yè)的講述,希望可以幫助大家更好的理解鏡頭參數(shù)問(wèn)題。放 大 率 光學(xué)放大率影像大小相對(duì)于物體的放大...